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Product
In-situ UV Analysis
Temperature & Gas Diffuse Reflection
Temperature & Gas Diffuse Reflection
분말과 촉매를 실제 반응 환경에 두고, Temperature와 Gas 변화에 따른 Optical Response를 관찰합니다.
Diffuse Reflection UV-Vis-NIR은 Powder, Catalyst, Porous Material 및 Rough Surface처럼 일반적인 Transmission 측정이 어려운 시료의 광학적 특성을 분석하는 데 유용합니다.
Environmental Reaction Chamber를 결합하면 시료를 꺼내지 않고 Temperature와 Gas / Atmosphere 조건을 변화시키면서 Diffuse Reflection Spectrum을 반복 측정할 수 있습니다.
반응 전과 후가 아니라, 반응이 진행되는 동안의 Optical Change를 측정합니다.
시료의 Temperature를 변화시키거나 Reactive / Inert Gas를 공급하면서 Spectrum을 반복 측정하면, Absorption Band, Reflectance 및 Optical Edge의 변화를 Reaction Condition과 함께 비교할 수 있습니다.
어떤 변화를 관찰할 수 있을까요?
Thermochromic Change
Temperature 변화에 따른 Color 및 Optical Absorption 변화를 추적합니다.
Gas-Solid Interaction
Gas 종류와 Atmosphere 변화에 따른 Powder / Surface의 Optical Response를 비교합니다.
Oxidation / Reduction
Controlled Atmosphere에서 발생하는 Material State 변화와 Spectrum 변화를 비교합니다.
Temperature Dependence
Heating / Cooling 과정에서 Absorbance와 Reflection 변화를 연속적으로 확인합니다.
Temperature와 Gas 조건을 유지하면서 Spectrum을 측정합니다.
Sample
Powder, Catalyst 또는 Diffuse Reflecting Material을 Reaction Chamber에 장착합니다.
Environment
Temperature와 Gas / Atmosphere 조건을 설정합니다.
Diffuse Reflection
시료에서 발생하는 Diffuse Reflected Light를 수집합니다.
Reaction Monitoring
조건 변화에 따른 UV-Vis-NIR Spectrum을 시간에 따라 비교합니다.
In-situ Diffuse Reflection System 구성
하나의 전용 장비가 아니라 Spectrophotometer와 Optical Accessory, Reaction Chamber 및 Environmental Control을 연구 목적에 맞게 조합합니다.
UV-Vis-NIR Spectrophotometer
Optical Accessory
Reaction Chamber
Control
이런 연구에 적용할 수 있습니다.
Thermochromic Materials
Temperature 변화에 따라 색 또는 Optical Absorption 특성이 변하는 소재의 가역적 / 비가역적 변화를 관찰합니다.
Catalyst & Porous Materials
Gas와 Temperature 조건 변화에 따라 Catalyst 또는 Porous Material에서 나타나는 Optical Response를 비교합니다.
Gas-sensitive Materials
Reactive Gas 또는 Controlled Atmosphere에 노출될 때 Functional Material의 Reflection / Absorption 변화를 추적할 수 있습니다.
Functional Powders
Oxide, Pigment, Ceramic 등 분말 소재의 Temperature-dependent Optical Property를 분석합니다.
연구 조건에 맞는 Reaction Accessory를 선택합니다.
아래 제품은 In-situ UV-Vis-NIR Diffuse Reflection System을 구성할 때 검토할 수 있는 대표적인 3rd-party Accessory 예시입니다.
UV-Vis Diffuse Reflection Environmental Chamber
Diffuse Reflection Optics와 Environmental Chamber를 결합하여 Temperature, Reaction Gas 및 Vacuum Environment에서 Powder Sample을 측정할 수 있는 구성입니다.
- High-temperature configuration: Ambient ~ 1000°C
- Low-temperature configuration: -150 ~ 500°C
- Reaction Gas / Vacuum Environment 구성
- Temperature-programmed Measurement 구성 가능
UV-Vis-NIR Diffuse Reflection Reaction Chamber
Powder 및 High Surface Area Sample을 대상으로 Temperature와 Controlled Atmosphere 조건에서 Diffuse Reflection UV-Vis-NIR Measurement를 수행할 수 있습니다.
- High-temperature configuration: 최대 약 910°C under vacuum
- Low-temperature configuration: -150 ~ 600°C under vacuum
- Gas Inlet / Outlet을 이용한 Controlled Atmosphere 구성
- UV-Vis-NIR용 Optical Window Configuration
※ PIKE Technologies 및 Harrick Scientific은 적용 가능한 대표적인 3rd-party 제조사 예시이며, 본 표기는 JASCO 또는 티에스싸이언스와의 공식 제휴 관계를 의미하지 않습니다. 실제 적용 가능 온도, Pressure, Gas, Window Material 및 Wavelength Range는 선택한 Accessory Configuration과 실험 조건에 따라 검토가 필요합니다.
어떤 Accessory가 필요한지보다 어떤 반응을 관찰하려는지가 먼저입니다.
Sample 형태, 필요한 Temperature Range, 사용 Gas, Pressure / Vacuum 필요 여부, 측정 Wavelength 및 Diffuse Reflection Geometry를 확인한 후 적합한 Reaction Chamber와 Optical Configuration을 선택합니다.
어떤 Temperature와 Gas 조건에서 측정하고 싶으신가요?
Sample 형태와 Temperature Range, 사용하려는 Gas / Atmosphere, Pressure 또는 Vacuum 조건, 필요한 UV-Vis-NIR Wavelength Range를 알려주시면 적합한 In-situ Diffuse Reflection System Configuration을 검토해드립니다.
