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JASCO FT/IR-X Series는 일반적인 화학 성분 분석부터 미세 이물, 박막, 가스 및 In-situ 반응 분석까지 다양한 연구 목적에 대응하는 연구용 FTIR 시스템입니다. FT/IR-4X, 6X, 8X의 세 가지 플랫폼과 다양한 검출기, 광학계, 현미경 및 환경제어 액세서리를 조합하여 분석 목적에 맞는 시스템을 구성할 수 있습니다.
Materials · In-situ · Semiconductor · Gas · Microscopy
FTIR 장비를 먼저 선택하기보다 시료와 분석 목적을 기준으로 필요한 검출기, 액세서리 및 측정 방법을 구성하는 것이 중요합니다.
고분자, Film, Powder, Liquid 등 다양한 소재의 화학적 결합 및 성분 분석
온도, Gas, 전기화학 및 외부 환경 변화에 따른 반응 과정을 시간에 따라 추적
Si Wafer, 박막, 표면 및 미세 오염에 대한 분광학적 특성 평가
Gas Cell 및 Long Path Cell을 이용한 가스 성분 확인과 농도 변화 모니터링
IR Microscope와 결합하여 미세 이물 및 특정 영역의 Chemical Mapping
온도 제어, Gas 유동, 전기화학 및 기타 환경 제어 액세서리를 FTIR과 결합하여 외부 조건 변화에 따른 분자 구조와 반응 과정을 시간에 따라 추적할 수 있습니다.
FTIR In-situ Solution →FTIR을 이용하여 Silicon Wafer, 박막 및 표면의 분광학적 특성을 평가할 수 있으며, Vacuum 및 Microscope 시스템과 조합하여 반도체 연구에 필요한 다양한 측정 구성이 가능합니다.
반도체 분석 Solution →단순히 상위 모델을 선택하기보다 필요한 분해능, 파수 영역, Vacuum 및 시간분해 측정 여부에 따라 적합한 모델을 선택할 수 있습니다.
일반 소재 분석부터 ATR, 현미경 측정 및 Rapid Scan까지 폭넓게 활용할 수 있는 Research-grade FTIR입니다.
높은 감도와 확장성을 기반으로 In-situ 반응 분석, Gas, Far-IR 및 첨단 소재 연구에 적합한 FTIR 플랫폼입니다.
높은 분해능과 Step Scan을 포함한 시간분해 측정이 필요한 정밀 분광 연구를 위한 FTIR 플랫폼입니다.
| FTIR Spectroscopy | |||
| Model | FT/IR-4X | FT/IR-6X | FT/IR-8X |
|---|---|---|---|
| Standard Wavenumber Range | 7,800 – 350 cm⁻¹ | ||
| Optional Wavenumber Range |
11,500 – 375 cm⁻¹ 6,000 – 220 cm⁻¹ 6,000 – 50 cm⁻¹ |
25,000 – 20 cm⁻¹ | |
| Maximum Resolution | 0.4 cm⁻¹ | 0.25 cm⁻¹ | 0.07 cm⁻¹ |
| Signal-to-Noise Ratio | 35,000 : 1 | 47,000 : 1 | 55,000 : 1 |
| Rapid Scan | ● | ● | ● |
| Step Scan | – | – | ● |
| Vacuum Option | – | ● | ● |
| IR Microscope | ● | ● | ● |
시료 종류와 측정 목적을 알려주시면 FT/IR-4X, 6X, 8X 중 적합한 플랫폼과 검출기, 액세서리 및 In-situ 시스템 구성을 검토해드립니다.
